TFT-LCD 製造工程の CVD 蒸着工程で使用されるプロセス特殊ガス：シラン (S1H4)、アンモニア (NH3)、リン (pH3)、笑い (N2O)、NF3 など、プロセスプロセスに加えて高純度水素および高純度窒素およびその他の大きなガス。アルゴンガスはスパッタリングプロセスで使用され、スパッタリングフィルムガスはスパッタリングの主な材料です。第１に、成膜ガスはターゲットと化学反応することができず、最適なガスは不活性ガスである。エッチングプロセスでも大量の特殊ガスが使用され、電子特殊ガスは主に可燃性および爆発性であり、毒性の高いガスであるため、ガス経路の要件は高くなります。Wofly Technology は、超高純度輸送システムの設計と設置を専門としています。
特殊ガスは、主に LCD 業界でフィルム形成および乾燥プロセスに使用されます。液晶ディスプレイにはさまざまな分類があり、TFT-LCDは高速で、画像品質が高く、コストが徐々に削減されており、現在最も広く使用されているLCD技術が使用されています。TFT-LCD パネルの製造プロセスは、フロント アレイ、中型ボックス化プロセス (CELL)、およびポスト ステージ モジュール アセンブリ プロセスの 3 つの主要なフェーズに分けることができます。電子特殊ガスは主に前アレイ工程の成膜・乾燥段階に適用され、SiNX非金属膜とゲート、ソース、ドレイン、ITOをそれぞれ成膜し、ゲートなどの金属膜、ソース、ドレイン、ITO。
窒素/酸素/アルゴン ステンレス鋼 316 半自動切替ガス制御盤
投稿時間: Jan-13-2022